Barco de obleas de cuarzo semiconductor

As obleas de cuarzo para semicondutores de Semixlab son ferramentas de rolamento esenciais deseñadas para procesos de alta temperatura como difusión, oxidación, CVD, recocido, etc., na fabricación de semicondutores. Fabricadas con cuarzo sintético de alta pureza con excelente resistencia a altas temperaturas, estabilidade química e baixo coeficiente de expansión térmica, poden transportar obleas de forma estable en ambientes de proceso agresivos para garantir a consistencia do proceso e o rendemento do produto.

Equipamento aplicable: Compatible con todo tipo de fornos de difusión horizontal/vertical (fornos de difusión horizontal/vertical), sistemas LPCVD e equipos de tratamento térmico rápido (RTP).

Garantía de calidade

Control de calidade rigoroso: detección de fugas por espectrometría de masas de helio ao 100 % (taxa de fugas <1×10⁻⁹ mbar·L/s). Emítese un informe de pureza do material (proba ICP-MS) para cada lote.

Estándares de certificación: En liña coas especificacións SEMI F47, mediante a certificación do sistema de xestión da calidade ISO 9001:2015.

Vida útil: a vida útil media en condicións normais é superior a 2 anos (dependendo da frecuencia do proceso e das condicións de temperatura).

Por que elixir o noso barco de cuarzo?

Servizos personalizados: tamaño e construción personalizados segundo o modelo do equipo (TEL, Kokusai, ASM, etc.) e os requisitos do proceso.

Resposta rápida: o prazo de entrega estándar é de 3 semanas, os pedidos urxentes pódense reducir a 10 días hábiles.

Rede de servizo global: Ofrecemos asesoramento técnico, orientación sobre a instalación e soporte de mantemento posvenda. Especificacións dos materiais.

Especificación do proxecto

Síntese de materiais de cuarzo fundido

Pureza ≥99.99 % SiO₂

Compatibilidade do tamaño da oblea 8", 12" (pódese personalizar 6" ou 18")

Temperatura de funcionamento ≤1200 °C (continua) / 1300 °C (máxima)

Coeficiente de expansión térmica (CTE) 0.55×10⁻⁶/°C (20-1000°C)

Rugosidade superficial (Ra) ≤0.2 μm

Capacidade estándar 25/50/100 comprimidos

Gases de proceso aplicables O₂, N₂, H₂, Ar, SiH₄, HCl, etc.

Oxidación/difusión a alta temperatura: dopaxe con silicio (difusión de fósforo, boro), crecemento de óxido de porta.

Deposición de película fina: silicio policristalino LPCVD, deposición de nitruro de silicio (Si₃N₄).

Proceso de recocido: recocido tras implantación iónica (RTA), aliaxe de metais.

Semicondutores de terceira xeración: proceso de epitaxia de carburo de silicio (SiC), nitruro de galio (GaN).

1. Características dos materiais

Cuarzo de pureza ultraalta (>99.99 % de SiO₂): evita a contaminación por ións metálicos (Na+, K+, Fe³+, etc.) e cumpre os requisitos de limpeza para procesos avanzados (nodos <5 nm).

Resistencia a altas temperaturas: temperatura de funcionamento continuo de 1200 °C, resistencia instantánea á temperatura de 1300 °C, sen risco de deformación nin cristalización.

Inercia química: Resiste gases de proceso como HCl, H₂, O₂, SiH₄ e ambientes ácidos/alcalinos. Non corrosivo a longo prazo.

2. Deseño de precisión

Optimizar a estrutura:

A precisión do espazado entre ranuras é de ±0.05 mm, o que garante un posicionamento preciso da oblea (8/12 polgadas) e evita rabuñaduras ou desprazamentos.

Deseño resistente aos choques térmicos, adáptase a subidas e baixadas rápidas (taxa de quecemento ≤20 °C/min).

Baixa formación de partículas: a superficie está pulida con ultraprecisión (Ra ≤0.2 μm) para reducir a adhesión e a caída das partículas.

3. Configuración diversificada

Capacidade opcional: admite 25 pezas, 50 pezas, 100 pezas e outras especificacións estándar, tamén se pode personalizar un número de ranura non estándar.

Adaptación do tipo: embarcación aberta, embarcación pechada ou un tipo de embarcación especial (como o deseño de canle de desviación do fondo da embarcación).

P1: Podes proporcionar un tamaño non estándar ou un deseño especial?

R1: Semixlab ofrece servizos personalizados, como o axuste de tamaño, o límite superior de temperatura (é necesaria unha actualización do material) ou o tipo de interface. Póñase en contacto co equipo técnico de Semixlab para obter información sobre os requisitos específicos.

P2: Canto tempo leva o prazo de entrega?

A2: O prazo de entrega para os produtos estándar é de 4 a 6 semanas e o tempo de deseño e verificación para os produtos personalizados é de 2 a 3 semanas.

P3: ¿Ofrecen asistencia técnica posvenda?

R3: Si, ofrecemos asesoramento técnico e servizos de resposta a emerxencias durante toda a vida. En caso de problemas de instalación ou uso, pódese contactar co equipo de soporte en calquera momento por correo electrónico ou teléfono.

P4: O produto cumpre os estándares da industria dos semicondutores?

R4: Si, o proceso de produción cumpre cos estándares SEMI e está certificado polo sistema de xestión da calidade ISO 9001. Cada lote é probado para comprobar a súa estanqueidade, resistencia á temperatura e pureza antes de saír da fábrica.