Paletas en voladizo de SiC

Ⅰ. Paletas en voladizo de SiC de alta pureza para a manipulación precisa de obleas

As paletas cantilever de SiC son compoñentes críticos que se empregan nos equipos de procesamento térmico para manipular obleas durante as etapas de epitaxia, difusión e oxidación na fabricación de semicondutores. As súas excepcionais propiedades térmicas e mecánicas fanas ideais para ambientes de alta temperatura e corrosivos en operacións de sala limpa.

3. Visión xeral do produto e vantaxes funcionais

1. Propiedades excepcionais dos materiais para aplicacións de alto rendemento

As paletas cantilever de SiC de Semixlab fabrícanse con revestimentos de carburo de silicio recristalizado (R-SiC) ou SiC CVD de alta pureza, o que proporciona unha excelente condutividade térmica (ata 120 W/m·K), baixa expansión térmica (~4.0 x 10⁻⁶/K) e unha resistencia excepcional á corrosión e aos choques térmicos. Estas propiedades garanten un soporte estable da oblea durante os procesos de alta temperatura, minimizando os riscos de deformación ou contaminación da oblea.

2. Estabilidade dimensional e planitude superiores

Cunha deformación mínima mesmo a temperaturas superiores a 1400 °C, o deseño en voladizo garante unha colocación e transferencia uniformes das obleas, o que é vital para a uniformidade da capa epitaxial. A baixa masa e a alta rixidez do SiC melloran o rendemento do sistema e a resposta á temperatura durante o procesamento térmico rápido.

3. Pureza superficial de grao de sala branca

Grazas ao acabado superficial denso e liso de SiC, as paletas de Semixlab minimizan a xeración de partículas e a desgasificación. Isto é especialmente importante en contornas que requiren niveis de limpeza de Clase 1 ou ISO 14644-1 Clase 2.

4. Adaptado para fornos epitaxiais, de difusión e de deposición química en fase CVD

As nosas paletas en voladizo de SiC úsanse amplamente en plataformas de fornos de oxidación e MOCVD, LPCVD, e son compatibles con marcas de equipos líderes como ASM, TEL e Veeco. Están deseñadas para unha uniformidade térmica e unha precisión mecánica óptimas, o que axuda a garantir un maior rendemento e unha menor variación do proceso.

3. Por que elixir Semixlab?

Ofrecemos servizos de enxeñaría a medida, incluíndo:

● Personalización do produto en canto a tamaño, estrutura e grao do material

● Optimización do revestimento para a resistencia térmica e química

● Capacidades rápidas de prototipado e produción en lotes pequenos

● Consultoría técnica e validación de deseño

Como fabricante e fábrica chinesa líder de produtos de paletas en voladizo de SiC, Semixlab insiste en proporcionar tecnoloxía e solucións de produtos personalizadas. Tanto se queres optimizar o proceso de tratamento térmico existente, mercar pezas de reposto de alto rendemento ou desenvolver conxuntamente solucións de SiC personalizadas, Semixlab proporcionarache soporte técnico e de entrega.

● Portadores de obleas de epitaxia MOCVD

● Brazos de paletas para fornos de oxidación e difusión

● Sistemas de carga de obleas en ferramentas LPCVD/CVD

● Brazos de soporte de susceptores personalizados para o crecemento de semicondutores compostos