Fieltro suave de grafito de alta pureza

Semixlab é un fabricante líder de feltro brando de grafito de alta pureza en China, centrado en proporcionar solucións de illamento térmico de alto rendemento para campos industriais de semicondutores, fotovoltaicos e de alta temperatura. Este produto utiliza materia prima de grafito de alta pureza importada (contido de impurezas ≤0.1%), fabricado cunha estrutura de rede de fibra mediante un proceso especial e ten características principais como condutividade térmica ultrabaxa (≤ 0.25 W /m·K a 1000 ℃), resistencia extrema a altas temperaturas (temperatura de uso continuo de 3000 ℃) e inercia química, o que o converte nun material ideal para a construción de sistemas de campo térmico de precisión.

O feltro brando de grafito de alta pureza é o material de illamento central para o sistema de campo térmico de equipos semicondutores e fotovoltaicos. Mediante o tecido e apilado de precisión de fibras de grafito de alta pureza, fórmase unha estrutura porosa con baixa condutividade térmica. En ambientes de alta temperatura (por exemplo, por riba dos 800 ℃), reduce significativamente a perda de calor ao reflectir a calor radiante e reducir a ruta de transferencia de calor en fase sólida.

Segundo as diferenzas nas materias primas, os produtos divídense en tres categorías:

Feltro brando de grafito a base de PAN: excelentes propiedades mecánicas, proceso de produción sinxelo, amplamente utilizado en materiais de soporte estrutural.

Feltro brando de grafito a base de viscosa: forte resistencia á ablación, alta dificultade técnica, axeitado para escenas de illamento térmico a altas temperaturas.

Feltro brando de grafito a base de brea: rico en materias primas, alto rendemento de carbonización, pero a aplicación no mercado é limitada.

1. Equipos de fabricación de semicondutores

Sistema de crecemento de silicio monocristalino:

No forno de monocristal do método CZ, o quentador de grafito e o crisol de cuarzo están envoltos para lograr un control preciso do gradiente de temperatura de fusión (diferenza de temperatura axial ≤2 ℃/cm) e garantir a estabilidade da taxa de crecemento do monocristal.

Forno de crecemento de cristais de carburo de silicio:

Cando se emprega o método PVT, o feltro brando como capa de illamento central pode aumentar a uniformidade do campo térmico axial no forno nun 40 % e reducir a taxa de defectos cristalinos a < 0.5/cm².

2. Equipamentos da industria fotovoltaica

Forno de lingotes policristalino:

O deseño de montaxe modular mellora a eficiencia térmica do forno ata o 85 %, o que supón un aforro de enerxía do 30 % en comparación co feltro duro de carbono tradicional.

3. Equipamento industrial de alta temperatura

A velocidade de arrefriamento por temple do revestimento de illamento térmico na cámara de quentamento do forno de temple de gas de alta presión ao baleiro aumenta nun 20 %.

O sistema de selado dinámico na zona de sinterización do forno de sinterización ao baleiro reduce o consumo de gas argon nun 15 %.

Pureza ultraalta: cinzas ≤500 ppm, 200 ppm, 20 ppm, pódese personalizar.

Resistencia a temperaturas extremas: temperatura máxima de funcionamento de 3000 ℃.

Resistencia á corrosión ácida e alcalina: (pH 2-12), reactividade cero. 

Personalización da solución técnica: simulación do campo térmico + deseño de xuntas con selección de materiais.

Vantaxes diferenciadoras: resistencia á temperatura un 200 % maior que o feltro de carbono tradicional, condutividade térmica un 50 % menor que o feltro de grafito da competencia, compatibilidade co sistema de selado dinámico.