Inicio> lista de presentación
O Semixlab proceso de gravado en seco é unha forma ordenada de crear cousas pequenas nas superficies dos chips de ordenador. É coma se estiveses a usar unha máquina particularmente peculiar que está a dar forma a un anaco de silicio. Fíxate, o proceso de gravado en seco usa gases, non líquidos nin auga. É coma se estiveses a axitar unha variña máxica e as cousas simplemente son como queres que sexan.
Este proceso de gravado en seco é vital para fabricar os chips dos nosos dispositivos favoritos, como teléfonos móbiles e tabletas. Úsase para fabricar pequenos transistores e circuítos que permiten que os nosos dispositivos funcionen rápido e ben. O proceso tamén crea sensores e chips de memoria que protexen as imaxes e os vídeos dos nosos dispositivos.
Tres compoñentes traballan xuntos no Semixlab gravado seco con SiO2 proceso para dar forma a chips semicondutores. Primeiro a cámara de gravado real onde ocorre toda a maxia. E está o sistema de subministración de gas para subministrar os gases especiais á cámara. E, finalmente, hai unha fonte de enerxía que energiza os gases para que poidan cortar formas no silicio.
Tecnoloxía avanzada de proceso de gravado en seco, detección e imaxe de detectores 53. Solución de servizo de valor para usar con calquera sistema SPECULATOR ou similar. NÚMERO DE PEZA CABLES ADAPTADORES RCA A BNC podes escoller entre ACV.
Moitos esforzos da comunidade científica están destinados a desenvolver métodos novos ou mellorados de invención de procesos secos. Unha estratexia prometedora é o gravado por plasma, no que se usa plasma de alta enerxía para gravar o silicio. Outro proceso é o gravado profundo de ións reactivos, que escava máis profundamente e con máis precisión no silicio.
Pero ás veces as cousas poden volverse estrañas durante o pulido. Un problema que ás veces se denomina na técnica o problema da "carga de gravado", no que se grava unha gran cantidade de silicio. Isto pode ter consecuencias negativas na calidade do bordo e impedir que as virutas funcionen con eficiencia. Microcarga: é outro problema no que as pequenas partículas se depositan no silicio e cambian o Semixlab. Anel Focus de gravado. Para aliviar estes problemas, o operador debe axustar meticulosamente o fluxo e a potencia do gas na cámara de gravado.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
